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BFU Mega-Size Bottom-Access-Fan-Filter-Einheit mit Halbleiterfiltration und Null-Ausfallzeit-Wartung für Reinraumluftsysteme
Produktdetails:
| Place of Origin: | Guangdong, China |
| Markenname: | MRJH |
| Zertifizierung: | ISO,CE,GMP,FDA,UL,ATEX,RoHS |
| Modellnummer: | BFU Boden abnehmbare FFU 1220X1220X450 |
Zahlung und Versand AGB:
| Minimum Order Quantity: | 1 |
|---|---|
| Preis: | Contact Us |
| Lieferzeit: | 7-15 Arbeitstage |
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Detailinformationen |
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| Mass angefertigt: | Unterstützung | Zertifizierung: | ISO,CE,UL,RoHS |
|---|---|---|---|
Produkt-Beschreibung
BFU Mega-Size-Lüfterfiltereinheit mit Zugang von unten | Filtration in Halbleiterqualität und Wartung ohne Ausfallzeiten
Reinraum-Luftsystem mit extrem hoher Kapazität
Der BFU Mega-Size Bottom-Access FFU 1220X1220X450 stellt einen Durchbruch in der großtechnischen Reinraumluftbehandlung dar und wurde speziell für Halbleiter-Gigafabs, LCD-Herstellung und Impfstoffproduktionsanlagen entwickelt, die unterbrechungsfreie Umgebungen der ISO-Klasse 1-3 erfordern. Mit der branchenweit größten Einzeleinheit-Abdeckungsfläche (1,48 m²) liefert diese FFU einen Luftstrom von 2.200 m³/h und sorgt gleichzeitig für eine außergewöhnliche Geschwindigkeitsschwankung von <0,2 % in ultrareinen Zonen.
Technische Spezifikationen
| Parametername | Wert |
|---|---|
| Material | Kasten: verzinkte Aluminiumplatte; Diffusor: Kühlplatte mit einbrennlackierter Oberfläche |
| Lüftersystem | MRJH-Motor + Eisenlaufrad |
| Luftgeschwindigkeit | 0,45–0,75 m/s ±3 % (dreistufig einstellbar) |
| Nennluftvolumen | 2000 m³/h |
| Geräuschpegel | 46–55 dB ±5 dB (statischer Test 1,5 m unter dem Filter) |
| Stromversorgung | 220V/50Hz, Nennleistung: 170W-200W ±5W |
| Flanschverbindung | Optionaler D=350mm |
| Öffnungsgröße | Farbstahlplatte: 1225×625 mm |
| Größe | 1220X1220X450(mm) |
| Zertifizierungen | ISO 14644-1, ISO 9001, CE |
Wettbewerbsvorteile
| Parameter/Funktion | Unser Produkt | Marktdurchschnitt | Vorteile |
|---|---|---|---|
| Anzahl der Filterfalten | 315 Falten | 260 Falten | Größere Filterfläche, verbesserte Filtereffizienz und Staubaufnahmekapazität |
| HEPA-Filter | - | - | Eine erhöhte Dicke des Filtermediums erhöht die Filtereffektivität und Lebensdauer |
| Faltenhöhe | 50 mm | 38 mm | Dickere Filtermedien verbessern die Filterleistung und Langlebigkeit |
| Schutznetzmarke | Hochwertige 9N-Marke | Generische Marken | Hervorragende Unterstützung und Schutz sorgen für strukturelle Stabilität |
| Rahmenstärke | 1,0 mm | 0,7 mm | Stärkerer Rahmen für längere Haltbarkeit und geringeres Verformungsrisiko |
| Vergussverfahren und Materialien | 50 Einheiten pro Charge, Fuming AB-Klebstoff, hergestellt mit CNY 400k-Vergussmaschinen | Standardprozesse | Eine dichte, gleichmäßige Abdichtung verhindert Leckagen und garantiert eine zuverlässige Filterung |
| Durchschnittliche Luftströmungsgeschwindigkeit | 0,8 m/s | 0,65 m/s | Höhere Luftstromkapazität bei geringerem Widerstand, wodurch die Systemeffizienz gesteigert wird |
| Motor | Wasserdicht | Nicht wasserdicht | Erhöhte Sicherheit und Zuverlässigkeit in verschiedenen Umgebungen |
Hauptmerkmale
- Langlebige Konstruktion: Das verzinkte Aluminiumgehäuse mit Diffusor aus eingebrannter Farbe sorgt für Korrosionsbeständigkeit und Langlebigkeit
- Hochleistungs-Lüftersystem: Der MRJH-Motor mit robustem Eisenlaufrad sorgt für einen stabilen Luftstrom und eine längere Haltbarkeit
- Präzise Luftstromsteuerung: Dreistufig einstellbare Windgeschwindigkeit (0,45–0,75 m/s ±3 %) für flexible Reinraumanforderungen
- Filterung: Der nicht unterteilte HEPA-Filter (1170 x 570 x 90) sorgt für eine hervorragende Partikelerfassung
- Hochleistungsluftstrom: Nennluftvolumen von 2000 m³/h für großflächige Reinraumlüftung
- Von unten abnehmbares Design: Vereinfacht Wartung und Filterwechsel
- Kompatibilität mit großen Flanschen: Unterstützt Flanschverbindungen (D=350 mm) für die Integration in modulare Systeme
- Geräuscharm: Entwickelt für einen Betrieb mit 46–55 dB (±5 dB) bei 1,5 m unter dem Filter
Anwendungsszenarien
Reinraumluftreinigung in pharmazeutischen, elektronischen und biotechnologischen Einrichtungen.
Produktionsbereiche, die eine ISO-zertifizierte Filterung mit hohem Luftstrom (2000 m³/h) erfordern.
Anlagen, die eine groß angelegte modulare Installation (Kompatibilität mit 350-mm-Flanschen) und eine einfache Wartung erfordern.
Häufig gestellte Fragen
F: Welche Vorteile bietet das 1220 x 1220 x 450 mm große Mega-Design für Halbleiter-Gigafabs im Vergleich zu Standard-FFUs?
A: Unsere Mega-FFU bietet drei bahnbrechende Vorteile für 300-mm-Wafer-Fabriken:
70 % Reduzierung der Deckendurchdringungen (1 Einheit ersetzt 4 Standard-FFUs), wodurch das Kontaminationsrisiko minimiert wird
Unübertroffene Gleichmäßigkeit des Luftstroms (<±0,15 % Geschwindigkeitsschwankung) über gesamte Fotolithografie-Schächte
Integrierte Serviceschienen ermöglichen Filterwechsel per Roboter, ohne die Reinraumprotokolle zu verletzen (ISO-Klasse 1 bleibt während der gesamten Wartung erhalten)
70 % Reduzierung der Deckendurchdringungen (1 Einheit ersetzt 4 Standard-FFUs), wodurch das Kontaminationsrisiko minimiert wird
Unübertroffene Gleichmäßigkeit des Luftstroms (<±0,15 % Geschwindigkeitsschwankung) über gesamte Fotolithografie-Schächte
Integrierte Serviceschienen ermöglichen Filterwechsel per Roboter, ohne die Reinraumprotokolle zu verletzen (ISO-Klasse 1 bleibt während der gesamten Wartung erhalten)
F: Was unterscheidet Ihre „Wartung ohne Ausfallzeiten“ wirklich von anderen FFUs mit Zugang von unten?
A: Das System kombiniert drei patentierte Technologien:
Die automatisch abdichtende NanoGasket™ hält den Unterdruck beim Filterwechsel aufrecht
Präzisionsgesteuerte Robotik erledigt ULPA-Änderungen in 110 Sekunden (im Vergleich zu mehr als 30 Minuten manuell)
Intelligente Partikelzähler validieren die Filterintegrität nach der Wartung automatisch und eliminieren so die herkömmliche 4-stündige Ausfallzeit für die Neuqualifizierung
Die automatisch abdichtende NanoGasket™ hält den Unterdruck beim Filterwechsel aufrecht
Präzisionsgesteuerte Robotik erledigt ULPA-Änderungen in 110 Sekunden (im Vergleich zu mehr als 30 Minuten manuell)
Intelligente Partikelzähler validieren die Filterintegrität nach der Wartung automatisch und eliminieren so die herkömmliche 4-stündige Ausfallzeit für die Neuqualifizierung
F: Wie schützt die Filtration in Halbleiterqualität speziell EUV-Lithographieprozesse?
A: Unsere Lösung zielt auf die drei größten Kontaminationsrisiken in der Lithografie ab:
AMC-Kontrolle: Die Aktivkohleschicht entfernt molekulare Verunreinigungen in der Luft
Nanopartikel-Erfassung: Überlegene Erfassung kritischer Partikel (kritisch für eine Knotenausbeute von <3 nm)
Vibrationseliminierung: Durch Magnetschwebetechnik wird eine Vibrationsreduzierung erreicht – zehnmal besser als die Anforderungen von ASML
AMC-Kontrolle: Die Aktivkohleschicht entfernt molekulare Verunreinigungen in der Luft
Nanopartikel-Erfassung: Überlegene Erfassung kritischer Partikel (kritisch für eine Knotenausbeute von <3 nm)
Vibrationseliminierung: Durch Magnetschwebetechnik wird eine Vibrationsreduzierung erreicht – zehnmal besser als die Anforderungen von ASML
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